Англо-русский толковый словарь терминов и сокращений по ВТ, Интернету и программированию. . 1998-2007.
EUV-Lithografie — (auch kurz EUVL) ist ein Fotolithografie Verfahren, das elektromagnetische Strahlung mit einer Wellenlänge von 13,5 nm (91,82 eV) nutzt, sogenannte extrem ultraviolette Strahlung (englisch extreme ultra violet, EUV). Dies soll es… … Deutsch Wikipedia
EUV-Lithographie — EUV Lithografie (auch kurz EUVL, Abkürzung für engl.: Extreme Ultra Violet) ist ein Fotolithografie Verfahren, das Strahlung mit einer Wellenlänge von 13,5 Nanometer (91,82 eV) nutzt (vgl. Ultraviolettstrahlung). Dies soll es ermöglichen, auch… … Deutsch Wikipedia
Extreme ultraviolet lithography — (also known as EUV or EUVL ) is a next generation lithography technology using the 13.5 nm EUV wavelength. EUVL opticsEUVL is a significant departure from the deep ultraviolet lithography used today. All matter absorbs EUV radiation. Hence, EUV… … Wikipedia
Next-generation lithography — (NGL) is a term used in integrated circuit manufacturing to describe the lithography technologies slated to replace photolithography. As of 2009 the most advanced form of photolithography is immersion lithography, in which water is used as an… … Wikipedia
Computational lithography — (also known as computational scaling) is the set of mathematical and algorithmic approaches designed to improve the resolution attainable through photolithography. Computational lithography has come to the forefront of photolithography in 2008 as … Wikipedia
Nanoimprint Lithography — Die Nanoprägelithografie (engl. Nanoimprint lithography, kurz NIL) ist ein Nanolithografie Verfahren zum kostengünstigen Herstellen von Nanostrukturen mittels eines nanostrukturierten Stempels. Als Positiv werden häufig Monomere oder Polymere… … Deutsch Wikipedia
Immersion lithography — is a photolithography resolution enhancement technique that replaces the usual air gap between the final lens and the wafer surface with a liquid medium that has a refractive index greater than one. The resolution is increased by a factor equal… … Wikipedia
Interference lithography — (or holographic lithography) is a technique for patterning regular arrays of fine features, without the use of complex optical systems or photomasks. Basic principleThe basic principle is the same as in interferometry or holography. An… … Wikipedia
EUVL — EUV Lithografie (auch kurz EUVL, Abkürzung für engl.: Extreme Ultra Violet) ist ein Fotolithografie Verfahren, das Strahlung mit einer Wellenlänge von 13,5 Nanometer (91,82 eV) nutzt (vgl. Ultraviolettstrahlung). Dies soll es ermöglichen, auch… … Deutsch Wikipedia
Cymer, Inc. — Cymer, Inc. Type Public Traded as NASDAQ: … Wikipedia
College of Nanoscale Science and Engineering — Established 2004 Type College Academic affiliation University at Albany … Wikipedia
